近日，源卓微纳总部研发大楼（一期）主体结构顺利完成封顶，项目迎来重要进展，向竣工投用又迈进了一步。

建设现场，塔吊林立，机器轰鸣，一片热火朝天的繁忙景象。建筑虽尚未褪下防护网，但项目已初具规模，即将开启源卓微纳的“新起点、新征程、新未来”。

源卓微纳科技（苏州）股份有限公司成立于2016年，经过近8年的开拓，公司市场占有率、品牌影响力、业务体量快速提升，在整体规模上到了一个新的台阶。为深化公司运营机制、优化企业商业版图，源卓微纳在不断的市场变化中拥抱变化，于组织架构、产品研发、公司战略上细化运作。

目前，源卓微纳重点开发了无掩模及投影光刻曝光机、数字光学设备关键部件及装置等产品，为高端电子电路、IC载板、先进封装、微机电系统（MEMS）、泛半导体、太阳能和微纳器件制造提供生产设备和工艺解决方案。新研发大楼应运而生，将进一步赋能公司产业升级，为源卓微纳高速稳健发展再添强大引擎。

总部研发大楼的建立是践行源卓微纳发展规划的重要举措，展示出企业集中技术力量深耕产品、推动产业创新升级的决心。企业负责人表示，源卓微纳将以研发大楼的封顶为新起点，不断加大研发投入、提升创新效能，为半导体和光伏行业带来更多的发展和突破。

接下来，商务区将继续全力抓好保障工作，实时跟踪项目进度，及时为企业纾困解难，推动项目早竣工、早投产、早达效，助力企业快速发展，推动产业转型升级，力争为园区高质量发展注入新的动力、激发新的活力。

编辑 金萱

2024年1月24日